产品名称：硅片烧结回转窑 气氛回转炉 连续式回转烧结炉
一、概述
硅片烧结回转炉主要用于CVD实验，也运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的设备。
二、型号规格
设备型号 炉膛尺寸（mm) 温度(℃） 额定功率（KW) 电压（V)
BLXG系列 φ120*2000-2500 1100-1600 8-16 380
BLXG系列 φ160*2500-3000 1100-1600 12-30 380
BLXG系列 φ220*2500-4000 1100-1600 15-40 380
BLXG系列 φ270*2500-5000 1100-1600 20-50 380
BLXG系列 φ320*2500-6000 1100-1600 30-60 380
BLXG系列 φ370*3000-7000 1100 30-70 380
BLXG系列 φ400*3000-8000 1100 40-80 380
BLXG系列 φ450*4000-9000 1100 50-100 380
BLXG系列 φ500*5000-9000 1100 60-110 380
BLXG系列 φ550*5000-9000 1100 70-120 380
BLXG系列 φ600*5000-10000 1100 80-160 380
BLXG系列 φ650*5000-12000 1100 100-240 380
BLXG系列 φ700*6000-12000 1100 140-280 380
注：回转窑炉可根据用户要求另行设计制造 |
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