管式炉，气氛管式炉，真空管式炉，石墨烯管式炉

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公　司：合肥日新高温技术有限公司

发布时间：2014年12月16日

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详细说明

CVD（Z）系列中温管式炉专门设计用于高、中、低温CVD和石墨烯工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，进口Kanthal电阻丝加热，优质刚玉管炉膛，系统可预抽真空，可带气体采用浮子流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计无隔板结构，有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。

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