气氛管式炉，退火炉，扩散炉

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气氛管式炉，退火炉，扩散炉

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公　司：合肥日新高温技术有限公司

发布时间：2014年12月16日

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详细说明

RGL系列气氛管式炉设计用于碳纳米管制备、半导体材料扩散、氧化和沉积工艺；同时也用于太阳能电池行业的氮化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、多晶硅等多种渡膜（LPCVD）工艺。该炉采用FEC陶瓷纤维管保温，KTL电阻丝加热，日本原装进口单回路温度控制仪控制，温区设计隔板结构，恒温区温度均匀。具有温度均匀、控制稳定、具有温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是企业、科研院所理想的小批量生产设备。

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