CMD2000研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
*一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
研磨分散机的规格
研磨分散机 流量* 输出 线速度 功率 入口/出口连接
类型 l/h rpm m/s kW
CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65
CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65
CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
研磨乳化机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。在乳化头上面加配了研磨乳化机磨头，使物料可以先经过研磨乳化机细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的研磨乳化机可根据物料要求进行。
 
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型研磨乳化机腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点：
1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨 
2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。 |
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