主要用途
常用作薄膜涂层。具有高的硬度和良好的耐磨性，是一种很受重视的耐磨涂层。用空心阴极离子镀制备的氮化铬膜具有Cr+Cr2N两相组织，晶粒度为20～70nm，硬度为HV22GPa。经真空退火后，能提高到HV35.4GPa。其耐磨性优于CrC膜。反应溅射法氮化铬膜能得到Cr+Cr2N或单相CrN两种组织，其硬度均在HV20～25GPa(块体CrN硬度HV11GPa)。用作耐磨涂层。
氮化铬是什么
中文名称氮化铬
CAS NO.12053-27-9
英文名称 chromium nitride
英文别名 Chromium nitride (Cr2N); Chromium nitride; Dichromium nitride; chromic nitrogen(-3) anion[1]
EINECS 246-016-3
PVD的全写为Physical Vapor Deposition,中文翻译为物理气相沉积。
采用阴极电弧等离子体沉积技术。阴极电弧等离子体沉积是相对较新的薄膜沉积技术，它在许多方面类似于离子镀技术。其优点：在发射的粒子流中离化率高，而且这些离化的离子具有较高的动能（40-100eV)。许多离子束沉积的优点，如提粘着力，增加态密度、对化合物膜形成具有高反应率等优点在阴极电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴极电弧等离子体沉积又具有自己一些独特优点，如可在较多复杂形状基片上进行沉积，沉积率高，涂层均匀性好，基片温度低，易于制备理想化学配比的化合物或合金。
通过蒸发过程将阴极材料蒸发是源于高电流密度，所得到的蒸发物由电子、离子、中心气相原子和微粒组成。在阴极电弧点，材料几乎百分百被离化，这里离子在几乎垂直于阴极表面的方向发射出去，当带有高能量的铬离子碰到氮气后便会马上产生化学反应，变成气态的氮化铬分子了。
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