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高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料//高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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公 司:
北京京迈研材料科技有限公司
发布时间:2022年02月15日
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公 司:
北京京迈研材料科技有限公司
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详细说明
高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
纯度 99.99% 99.999%
产品介绍
铜是人类最早使用的金属之一,它是一种过渡元素,延展性好,导热性和导电性高,因此在电缆和电气、电子元件是最常用的材料,也可用作建筑材料,可以组成众多种合金。铜的活动性较弱,铁单质与硫酸铜反应可以置换出铜单质。铜单质不溶于非氧化性酸。
产品参数
中文名 铜 分子量 63.546 原子序数 29 熔点(°C) 1357.77K(1083.4℃)
密度 8.960(固态)8.920(熔融液态) 沸 点 单质2835K(2562℃) 原子半径 145pm 莫氏硬度 3
公司介绍
北京京迈研材料科技有限公司,多年来一直专业从事光学镀膜材料及溅射靶材的研发与生产。靶材涵盖氧化物、硫化物、氟化物、氮化物、碲化物、硒化物、硼化物、碳化物、锑化物、氯化物、硅化物、多种元素复合掺杂功能陶瓷、金属及其合金等。
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