“刻线衍射光栅，MIR反射式”参数说明
型号： Qx-mir-gl 规格： 12.5 mm X 25.0 mm X
商标： 一博 包装： 硬塑
设计波长： 3.1 刻线数： 800
“刻线衍射光栅，MIR反射式”详细介绍
刻线衍射光栅，MIR反射式基本介绍
QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅，适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异，
刻线衍射光栅，MIR反射式性能特点
特性
· 设计波长：3.1 μm、3.5 μm、10.6 μm
· 设计波长处的偏振效率：80%到95%
· 低重影：小于主反射的0.5%
· 反射铝膜
· Pyrex基底，75到450刻线/mm
· 使用刻线的基底材料生产
· 损伤阈值：
o 连续波激光：250 W/cm2
o 脉冲激光器：3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)
刻线衍射光栅，MIR反射式技术参数
反射式衍射光栅，设计波长3.1 μm
Dimensions (W x H x D)
Design
Wavelength
Grooves/mm
Blaze Angle
Dispersion
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
3.1 μm
450
32°
1.6 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
反射式衍射光栅，设计波长3.5 μm
Dimensions (W x H x D)
Design
Wavelength
Grooves/mm
Blaze Angle
Dispersion
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
3.5 μm
300
26.5°
2.86 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
反射式衍射光栅，设计波长10.6 μm
Dimensions (W x H x D)
Design
Wavelength
Grooves/mm
Blaze Angle
Dispersion
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
10.6 μm
75
21°
12.3 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
100
27°
8.5 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm
150
35°
4.2 nm/mrad
25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm
刻线衍射光栅，MIR反射式使用说明
注意
光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可 |
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