光声无损膜厚仪
随着电子和纳米科学时代的兴起，电子元件的小型化已成为其几乎呈指数级性能的重要因素。将技术层和涂层减薄到纳米级，可以在各种领域取得进步。复杂的制造流程推动控制变得越来越准确。
光声无损膜厚仪为这些演变相关的许多问题提供了解决方案。缺陷检测现在在许多行业中必不可少，以避免在生产过程中遇到问题并提高质量水平。
我们使用获得专利的光声技术设计了光声无损测量系统。 技术源自法国CNRS 和波尔多大学的技术转让，它依靠激光、材料和声波之间的相互作用深入物质的核心。
我们的非破坏性和非接触式技术将光转换为声频超过100GHz 的声波。 目的在于表征涂层，例如不同类型材料的厚度和附着力。特别适用于测量从几纳米到几微米的薄层，无论是不透明的（金属、金属氧化物和陶瓷），还是半透明和透明的。 这种100%光学技术不受样品形状的影响。
产品特点
• 非破坏性和非接触式技术
• 薄膜的表征：厚度、附着力、热性能
• 快速且可重复的测量
• 超精密测量
• 许多材料可用
• 能检测的膜厚度从 2纳米～20微米
• 扫描方式：单点、XY扫描、表面声波
• 测样样品种类： 不透明、半透明、透明均可测试。
• 平坦和弯曲的样品均可
系统构成：
光声无损膜厚仪使用两个同步的超快激光器。会产生大约100飞秒的不同波长的激光脉冲。使用这些脉冲进行非破坏性和非接触式测量。这些都集中在所研究的样品表面。
能使用的材料
广泛的材料及其在许多应用中的使用使这一材料方面变得必不可少。自产品问世以来，我们的技术已证明其有能力测量许多金属材料。也适用于陶瓷和金属氧化物，并且不受外形因素的影响。
无损检测 (NDT) 具体应用案例半导体行业
半导体行业为我们周围遇到的大多数电子设备提供了基本组件。它的制造需要在硅晶片上进行多次薄膜沉积。
问题？
在任何工艺过程中，不透明薄膜的沉积，无论是单层还是多层，都需要质量控制。无论是检测还是计量，厚度测量和界面表征都是确保其质量的关键问题。
我们的解决方案？
- 高速控制。
- 非破坏性和非接触式测量。
- 单层和多层厚度测量。
显示器行业
今天，不同的技术竞争主导显示器的生产，而显示器在我们的日常使用中无处不在。事实上，由于未来 UHD-8K 标准以及新兴柔性显示器的制造工艺，这个不断扩大的行业存在技术限制。
问题？
一个像素仍然是一堆薄层有机墨水、银、ITO……在这方面，控制薄层厚度的问题仍然存在。这些问 |
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