乳膏制剂实验室真空均质乳化机
设 备 介 绍
设备描述：
ZK 标准系统的处理量有1L、2L、5L、10L等系列，能在真空或压力环境下，实现物料的分散、乳化、均质、混合等工艺过程。可配备多种高效宏观搅拌器、高剪切均质乳化机以及可靠的真空密封系统和温控系统，多种传感检测系统能在实验室环境模拟工业化生产。
型号 ZK-1L ZK-2L ZK-5L ZK-10L
电源 220V/50/60HZ
小搅拌量 100ml 100ml 500ml 500ml
小乳化量 400ml 800ml 2000ml 5000ml
大处理量 1000ml 2000ml 5000ml 100000ml
高工作温度 120°（可选配250℃配置）
加热方式 水浴、油浴循环
可达真空 -0.095Mpa
处理粘度 70000CP
搅拌机功率 120W 150W 150W 300W
搅拌机转速 0-200rpm
桨叶配置 锚式刮壁搅拌桨
刮板材质 硅橡胶（PTFE硬刮壁可选）
乳化均质机功率 710W 710W 1300W 1300W
乳化均质机转速 10000~28000rpm 5000~30000rpm
乳化工作头型号 25DG 25DG 25DG 25DG
反应釜盖开口 均质机口+投料口+测温口+真空口+3个备用扣
支架升降方式 电动升降
支架升降形成 230mm 230mm 280mm 280mm
接触物料材质 SUS316L不锈钢+PTEF+硅硼玻璃夹层容器
反应釜体材质 硅磞玻璃夹层容器（SUS316L不锈钢容器可选）
真空口外径 10mm
夹层进口、出口 12mm
外包装尺寸 460×410×900mm 480×420×900mm
重量 35KG 37KG 40KG 45KG
包装方式 木箱包装
设备模块化设计,任何系统可灵活组合。任意添加其他你需要的定制功能
不锈钢反应釜、电动升降、PH计、电导率仪、冷凝器、真空泵、恒温水浴循环锅
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