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公 司:
石久高研金属材料有限公司
发布时间:2014年12月01日
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石久高研金属材料有限公司
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详细说明
一氧化硅
化学符号:SiO
分 子 量:44.08
熔 点:1700℃
密 度:2.1g/cm3
折 射 率(波长/nm):1.8-1.9(550)
1.7(6000)
透明波段/nm:500-8000
相对介电常数:6
损耗因数:0.015-0.02
频 率/kHz:1-103
坩 埚:Ta
蒸发源方式:Ta、Mo
沉积技术:蒸镀
溶 解 于:王水
在10-4Torr蒸发温度:850℃
薄膜的机械和化学性质:适用电阻蒸发,应用低速率。低压下快速蒸发。
应 用:保护膜,冷光膜,装饰膜
SiO分析报告:
元素 检测值ppm 元素 检测值ppm 元素 检测值ppm
Iron (Fe) 5 Copper(Cu) <5 Nickel (Ni) <5
Chromium (Cr) <20 Manganese (Mn) 14 Aluminium(Al) 16
Magnesium(Mg) 22
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