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公 司: 石久高研金属材料有限公司 
发布时间:2014年12月01日
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电  话: 010-60729105
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公 司:石久高研金属材料有限公司

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详细说明

    一氧化硅
化学符号:SiO
分 子 量:44.08
熔    点:1700℃
密    度:2.1g/cm3
折 射 率(波长/nm):1.8-1.9(550)
                   1.7(6000)
透明波段/nm:500-8000
相对介电常数:6
损耗因数:0.015-0.02
频    率/kHz:1-103
坩    埚:Ta
蒸发源方式:Ta、Mo
沉积技术:蒸镀
溶 解 于:王水
在10-4Torr蒸发温度:850℃
薄膜的机械和化学性质:适用电阻蒸发,应用低速率。低压下快速蒸发。
应    用:保护膜,冷光膜,装饰膜
SiO分析报告:
元素       检测值ppm  元素         检测值ppm 元素        检测值ppm
Iron (Fe) 5  Copper(Cu)   <5         Nickel (Ni)   <5
Chromium (Cr) <20  Manganese (Mn)   14         Aluminium(Al)     16
Magnesium(Mg) 22


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该公司其他产品信息
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