真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层·
真空蒸镀:在高真空下，通过金属细丝的蒸发和凝结，使金属薄层附著在塑胶表面。 真空蒸镀过程中金属(*常用的铝)的熔融，蒸发仅需几秒钟，整个周期一般不超过15s，镀层厚度为0.8-1.2uM.
设计真空蒸镀塑料制品应避免大的平坦表面，锐角和锐边。凹凸图案、纹理或拱形表面效果*佳。真空蒸镀很难获得光学平面样制品表面。
真空镀表面镀的是漆，水镀表面镀的是金属层。
A9手机的面壳镀铜后镀LOU，共10μ，镀LOU层0.18μ。真空电镀相对于水电镀来讲，表面硬度较低，耐磨度也比较低，遇阳光易老化掉色，但污染较小。真空镀不导电
目前水电镀在重工业上应用较多(汽车等)，而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。
如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级，那么水电镀将要消失了。
目前很多手机上的金属外观件，都采用PVD真空离子镀，不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵，成本较高。
溅射镀:磁控溅射镀膜设备:
磁控溅射镀膜设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可根据用户要求配
置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等，
组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件镀铝、
铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜，所镀膜层均匀、
致密、附着力强等特点，可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯
反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术，是国内外*先进的磁控溅射镀膜技术，靶材利用率达到70~80%
以上，基体镀膜均匀，色泽一致。
b平面磁控溅射镀膜机;
c中频磁控溅射镀膜机;
d射频磁控溅射镀膜机。
可以在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢及金属反应物(氧化
物、氮化物、炭化物)、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附著力好等特点。
一、 单室/双室/多室磁控溅射镀膜机
该镀膜机主要用於各种灯饰、家电、钟表、玩具以及美术工艺等行业，在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)等
制品镀制铝、铜、铬 |
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