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深圳斯科达工业清洗设备有限公司
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玻璃晶片清洗机

详细说明

    半导体硅片、晶圆、晶片超声波清洗机

产品描述:

1.该型清洗机采用*环保水基清洗工艺;

2.该设备设计合理,充分考虑了环保和节能的要求;

3.采用半封闭式结构,运行部件设计充分考虑防止污染;

4.清洗机框架和烘干炉内均采用正压送风形式, 保持运行时的风流始终外溢;同时, 清洗区域与维护区域隔离开,确保润滑油脂及运动磨损不会对清洗的产品产生二次污染;

5.通过以上措施能有效保证工作室长期处于洁净状态,从而保证产品的洁净要求;

6.每工位槽体为独立设置,方便更换、维修维护。



应用范围:本清洗机非常适合于半导体硅片、晶片、晶圆、镜片等清洗和干燥,适合千级以上的环境下使用。



玻璃晶片清洗机、晶圆清洗机、晶片清洗设备、半导体硅片清洗机、硅片超声波清洗机

 
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