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韦晓成
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电 话:0755-29489361
手 机:15914055409
产品目录
玻璃晶片清洗机
详细说明
半导体硅片、晶圆、晶片超声波清洗机
产品描述:
1.该型清洗机采用*环保水基清洗工艺;
2.该设备设计合理,充分考虑了环保和节能的要求;
3.采用半封闭式结构,运行部件设计充分考虑防止污染;
4.清洗机框架和烘干炉内均采用正压送风形式, 保持运行时的风流始终外溢;同时, 清洗区域与维护区域隔离开,确保润滑油脂及运动磨损不会对清洗的产品产生二次污染;
5.通过以上措施能有效保证工作室长期处于洁净状态,从而保证产品的洁净要求;
6.每工位槽体为独立设置,方便更换、维修维护。
应用范围:本清洗机非常适合于半导体硅片、晶片、晶圆、镜片等清洗和干燥,适合千级以上的环境下使用。
玻璃晶片清洗机、晶圆清洗机、晶片清洗设备、半导体硅片清洗机、硅片超声波清洗机
深圳斯科达工业清洗设备有限公司
韦晓成
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公司地址:
中国广东深圳市深圳市龙华新区大浪街道华悦路东辉大厦后捷鸿工业园
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