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吉致JEEZ钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液

详细说明

    无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液



钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.



我司产品优点：



1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。



2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。



3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。



4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。



5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。



可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。



包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求）

 
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