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二氧化铪|二氧化铪厂家直销|二氧化铪质优价廉*选石久高研

详细说明

    氧化铪

化学符号:HfO2

外    观:白色

分 子 量:210.49

密    度:9.7g/cm³

熔    点:2500℃

折射率(波长/nm):1.9-2.1(300)

   1.84-2.0(2500)

沸    点:5400℃

线膨胀系数:5.8×10-6/℃(250-1300)

10¯4真空下蒸发温度为:2500℃

蒸发方式:电子束

透明波段/nm:235-2500

介电常数:20.5-23

比    容:0.05μF/cm2

电容温度系数TCC:(1.25~2.50)×10-4/℃

性    能:适于电子枪蒸发,成膜致密稳定。紫外波段的优良材料。不溶于水,耐化学性质,但在高温下能与氢氧化物起反应,膜坚硬;

应    用:主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。

          HfO2薄膜是一种绝缘氧化物,即可做薄膜电阻,又可做介子薄膜,一般用溅射法沉积制备。

HfO2分析报告:

Ti Fe Mn Mg Cr Ni

0.0 1 0.012 0.001 0.015 0.005 0.009

Al  Cu      

0.0 1 0.005

 
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