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供应半导体扩散炉,炉管,氧化炉--晨立 供应半导体扩散炉,炉管,氧化炉--晨立_青岛晨立电子有限公司_供应半导体扩散炉,炉管,氧化炉--晨立

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公 司: 青岛晨立电子有限公司
发布时间:2024年10月23日
有 效 期:2025年04月24日
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公 司:青岛晨立电子有限公司

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详细说明

    扩散炉
外型形式:卧式1—4管结构 程控高低温 扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。

技术指标:
可处理硅片尺寸:2—8英寸
工作温度:200℃—1300℃
恒温区长度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性:≤±1.5℃/24h
温度斜变:可控升温速率20℃/min,
可控降温速率:5℃/min
送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
气路系统:1—5路工艺气体/管
气体控制:全自动MFC、手动浮子流量计
控制方式:工控机、触摸屏


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