电子行业专用超纯水系统
IC电子制造应关注超纯水水质，在超大规模IC的超纯水水质中，优先关注的水质指标为：电阻率、微粒、TOC(总有机硅)、硅、碱金属、碱土金属、重金属、溶解氧、在超纯水中，细菌的影响与TOC、微粒基本相同，在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不纯物质或微粒，将导致栅氧化膜厚度不均，产品图形发生缺陷，耐压性变差，超纯水中的微量有机物会使产品结晶不良，在IC芯片制造过程中，与硅片接触的水所含离子越多，对产品良率影响就越大。电阻率反映了超纯水中离子的含量，超纯水的电阻率越高，其纯度也就越高。一般来讲，在25℃时，理论纯水的电阻率是18.25MΩ•cm。
反渗透设备（R.O.）
反渗透（R.O.）又称逆渗透，是当今*先进*经济的水处理方法之一，它能有效地去除水中各类无机盐(如钙、美离子)、重金属、化学物质、细菌、病毒。
其工作原理是利用膜的渗透原理，在压力作用下，反于自然渗透使溶液中的溶剂与溶质分离开来。
由反渗透元件组成的设备称为反渗透设备，目前已被广泛应用于各种液体的分离与浓缩。
应用领域
 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水；
 光电子产品、高科技精微产品；
 汽车、家电表面抛光处理；
 超纯材料和超纯化学试剂；
工艺流程;
原水→原水泵→机械功率器→活性炭过滤器→软化水过滤器→保安过滤器→中间水箱→一级高压泵→一级RO反渗透装置→一级RO水箱→二级高压泵→二级RO反渗透装置→二级RO水箱→EDI增压泵→EDI(CEDI)电去离子水系统→氮封水箱→核子级抛光混床→终端精密过滤器→UV紫外线杀菌→终端用水点。 |
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