等离子去光阻机PA01/PA03B

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等离子去光阻机PA01/PA03B

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公　司：馗鼎奈米科技股份有限公司

发布时间：2020年02月11日

有效期：2020年08月12日

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梁雅娟女士 (业务)

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电　　话： 886-62323927 传　　真： 886-62013306 手　　机： 13910378079 地　　址：中国台湾台南市台湾省台南市永康区中正路279巷21弄59号邮　　编：
公司主页：	http://creatingnano.qy6.com.cn(加入收藏)

详细说明

功能
快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，蚀刻率同业*高

特点
‧处理均匀性佳
‧离子能量低、不损伤基板
‧没有电极及基板的污染
‧专利设计之特殊等离子电极
‧高密度等离子源
ˇ等离子效率高、清洁效率高
ˇ可控制低的离子能量
ˇ结合化学反应性及物理撞击性
‧处理速度快、清洁效率高、可靠度高
‧操作范围广
‧可使用多种制程气体
‧全自动且容易操作
‧设备稳定高，容易维护
‧可依客户需求作更改

应用产业
‧残余光阻去除
‧蓝膜残胶去除
‧PSS来料清洁制程

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