★JQF1800系列箱式气氛炉★
JQF1800系列箱式气氛炉产品用途介绍
本系列产品，额定温度分别为1750℃，使用硅钼棒为加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
JQF1800系列箱式气氛炉详细介绍
1.炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。
2.炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。
3.炉膛材料采用优质的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用1800型硅钼棒。
4.电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。
5.可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真空度可以达到20kPa，气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准。
JQF1800系列箱式气氛炉型号及规格
项目 单位 JQF1600系列箱式气氛炉
JQF1800-30 JQF1800-40 JQF1800-50
额定加热功率 KW 12 18 30
电压/频率 V/Hz 220V/50-60Hz 380V/50-60Hz 380V/50-60Hz
工作室尺寸 mm 300*200*200 400*300*300 500*400*400
(深*宽*高)
*高温度 ℃ 1800℃
工作温度 ℃ 1750℃
空炉升温速率 min ≤20℃/min
温度均匀度 ℃ ≤±5℃
加热元件 硅钼棒
温控波动度 ℃ ±1℃
温控方式 智能型程序模糊PID控制
注: 1. 上述参数因设计变动,恕不通知.
2. 本公司可生产各种非标产品.
3. 产品因改进,若与照片不同,恕不通知.
4. 照片资料,版权所有,翻版必究. |
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