AMD-301碱性无氰镀铜
一、 特性
* 不会像氰化物镀液那样有剧毒、对环境和操作者造成很大的危害
* 可直接镀于钢、黄铜以及吊镀工艺的锌压铸件和浸锌后的铝件
* 可适用于滚、吊镀以及连续式的生产线
* 能为酸性镀铜和镀镍形成一层良好的底层
* 不含有毒分解物，以免被带入到酸性铜镀槽
* 能容许碳酸盐（无需冷凝出）
* 具有优质的覆盖性能
* 产生一层有具晶粒细化，良好延展性，无孔的沉积镀层
二、 应用建浴值
AMD－301MU开缸剂 200-300ml/L（V/V）
AMD－301 A 高位光亮剂 1-2ml/L
AMD－301 B低位光亮剂 4-8ml/L
温 度 30-50℃
pH 值 7.5-9.0
阴极电流密度 0.5-5A/dm2
电 压 6-10V
阳极 ：阴极 2-2.6 ：1
三、 设备及操作
铜 阳 极 OFHC级别。铜条或铜球。不可用磷铜角。
阳 极 篮 只可用钛
阳极／阴极比例 2-2.6 ：1。注意：在滚镀上，维持适当比例是很重要的。在设计工艺前要计算清楚*大阴极面积以确保阳极面积相等于*大阴极面积。另外要注意保持足够之阳极面积以溶解充足之铜阳极。
过 滤 以10微米滤芯连续过滤，每小时过滤槽液3－5次。新滤芯用前要以热水浸泡及彻底清洗。建议镀液以不含硫之碳芯过滤，约1公斤碳处理每100公斤镀液，另每星期更换。当电镀厚铜时（25微米或以上），滤芯建议用1微米。
加 热 不锈钢或钛管。
镀 槽 铁底包聚丙烯。
污 染 铅及氰化物对镀液有影响－出现黑色垢。
四、 添加剂的消耗量
AMD－301MU开缸剂 浓缩液用以开缸剂配镀液及补充。含铜及其它有关平衡组份。
每补充10毫升／升开缸剂提升铜含量0.3克/升。
AMD－301A高位光亮剂 提供整体性铜层光亮度。消耗量每千安培小时100-200毫升（滚镀）、100-200毫升（挂镀）。
AMD－366 B低位光亮剂 改善均镀能力，增加与基体的结合力。消耗量每千安培小时100-200毫升（滚镀）、100-200毫升（挂镀）。
五、 镀液配制 注意：切勿将含氰化学物带入本工艺内。
用每升3克活性碳加入刚配制溶液中，不断搅拌30分钟，让其沉淀后过滤，随后将AMD－301 B柔软剂计算量加入槽内，加水至所需液位，不断搅拌30分钟，再加入所需计算量AMD－301A光亮剂。新配镀液需低电流处理6小时，即可试镀（建议*好先取样用赫尔槽小试）。
六、 注意事项
1、 H值过高，镀层发雾、起毛剌、结合力差；
2、 H值的调高添加浓缩液调整； |
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