zfcz真空磁控溅射+蒸发镀膜机
性能
真空室结构立式双开门、立式单门、卧式单开门、后置真空获得系统
电源类型电阻蒸发电源、离子轰击电源、灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源
镀膜室尺寸Ф900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1200×H1400mmФ1400×H1600mmФ1600×H1800mmФ1800×H2000mm
镀膜室材质优质不锈钢材质
极限真空8.0×10-4Pa
抽气时间
(空载）
从大气抽至6.5.0×10-2Pa≤8分钟
真空获得系统扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（型号可根据客户的需求进行配置）
镀膜方式蒸发镀膜+磁控溅射镀膜
镀膜种类金属膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜、介质膜等
磁控靶类型矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶
磁控偏压电源功率及靶数量根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配
工件回转*大有限直径6轴 Ф260mm6轴 Ф280mm
8轴 Ф260mm6轴 Ф360mm
8轴 Ф280mm6轴 Ф420mm
8轴 Ф350mm6轴 Ф460mm
8轴 Ф380mm6轴 Ф560mm
8轴 Ф460mm
蒸发电极标配2对
蒸发功率35KW
整机总功率85KW
工艺气体2路或3路工艺气体流量控制及显示系统 选配自动加气系统
冷却方式水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机。（客户提供）
工件转架
转动方式行星式公自转、变频调速（可控可调）
控制方式手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制
报警及保护对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施。
设备占地面积W3m×L3mW3m×L3mW3.5m×L4mW5m×L5mW6m×L6mW6m×L8m
其他技术参数水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa
备 注镀膜设备的具体配置可根据客户的镀膜产品工艺要求进行设计。 |
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