1、设备名称：LPCVD设备
2、设备品牌：美国TYSTAR
3、设备功能：多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等
4、设备应用：半导体、MEMS、电子、太阳能、薄膜电池等
5、设备介绍
TYTAN炉系统用于半导体器件、微机电系统和光电池的制造。泰斯达已经在全世界安装了数百个炉子，并且它们的运转都是成功的，一些系统的运转已经超过了20年。TYTAN炉是由各种组件和组合件组装而成的精致的装置。其机械部分、电子组件和复杂的石英制品都经过特别的设计，以保护处理过程中的硅片的完整性。在操作工艺中，炉子在1300摄氏度的温度下运作，能够暴露在有毒，且有腐蚀性的气体和液体之中。在过去的30年内，炉子的设计由于泰斯达公司不断的更新，提高了其性能和耐用性。程序控制器经过数次重复设计，以增强其操作的简易度和精确性。TYTAN炉系统的设计让其具备了耐用性、稳定性和适用性。TYTAN炉系统为硅晶片的加工行业提供了一个独特的途径。隔热包专利产品提供了更紧凑的炉体-其性能却不打折扣。这种设计导致了均匀性良好的处理工艺和更高的硅片生产产量。
6、设备特点：
■占地空间小，节约了40%的洁净室空间
■优质的温度和处理的均匀性
■正常运行时间大于95%，生产能力突出
■在节能上，超过竞争对手设计的50%
■加工生产量更高
■改善了对气体处理环境的控制
■倒流入炉管的空气量最小
■使用的气体更少
■生成的颗粒少
■生产成本降低 |
|
手机站
您当前位置是：商业机会 >> 电工电气 >> 电工电气产品制造设备 >> 供应LPCVD设备
联系信息