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抛光机作业时注意防止试样飞出或压力太大而发生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上。以防止抛光机抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物坚持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。
为了达到粗抛的目的要求转盘转速较低，*好不要超越500r/min抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。抛光机精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响*终观察到组织。以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用*细的资料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的*好的方法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的去除磨光损伤层，这一阶段应具有*大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是主要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)其目的去除粗抛产生的表层损伤，使抛光机损伤减到*小。 |
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