强大而多功能的 Cesar® 射频电源平台可提供非常稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套独特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。
高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现*优化，从而使您的投资和制程生产力得到*大化的利用。一个全面而高度灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了无与伦比的便利性——提高了操作人员的效率，并使培训成本*小化。
典型应用：
高密度等离子体化学气相淀积（HDP CVD）
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
刻蚀-RIE/ICP
物理气相沉积
等离子清洗
优点
• 更长的制程正常运行时间
• 更高的操作简易性和灵活性
• 无需定制组件提前期的定制化性能
• 长期的使用简易性，节省成本
功能
• 精簡的流线型设计
• 标准的平台包装
• 高效率——低发热量
• 200和400 VAC 的输入选择
• 两个模拟用户端口选择
• RS-232、以太网及 Profibus 通讯
• 多功能前面板
• 便利、全面的操作菜单
• CEX（相位同步）操作模式 |
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