供应砷化镓CMP浆料（碱性粗抛）

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供应砷化镓CMP浆料（碱性粗抛）

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公　司：天恒纳米有限公司

发布时间：2014年03月20日

有效期：2014年09月19日

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公司主页：	http://htb5689.qy6.com.cn(加入收藏)

详细说明

产品简介

UPP/GAS01砷化镓CMP浆料是江苏天恒纳米科技股份有限公司生产的新一代水溶性高纯胶体浆料。该产品在实际应用中凭借高浓度、高稀释比例、低金属离子污染等卓越的性能得到了客户的充分肯定，主要用于砷化镓晶片的粗抛工艺中。

主要特点

UPP/GAS01砷化镓CMP浆料具有金属杂质沾污极少、活性强、表面张力低、易清洗、抛光速率高、抛光镜面粗糙度低等特点，非常适用于集成电路用砷化镓晶片的抛光工艺。在抛光中根据需要可以优化不同配比，均能达到*佳使用效果。与美国和日本的同类产品相比，该产品采用无金属离子、易溶于水的螯合剂，有效控制晶片表面的各种沾污，主要参数指标上均能满足IC要求。

主要用途和规格

UPP/GAS01 CMP浆料主要用于砷化镓晶片的高质量抛光。UPP/GAS01型CMP浆料用于砷化镓晶片的粗抛光，为碱性试剂。

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