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科研设备 科研仪器设备 科研专用加热设备 晨立专业设计定制
详细说明
设备用途:实验炉是半导体加工中的典型热处理设备,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
主要技术参数:
◆工艺管数量:1-4管
◆工艺管口径:Φ90-360mm(3~12英寸)
◆工作温度范围:400~1280℃
◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm
◆工艺均匀性:≤±5%(30~60欧姆)
◆结构型式:卧式热壁型
◆气体流量设定精度:±1%F.S
◆气路系统气密性: 1×10-7pa.m3/s
◆超净工作台:净化等级:100级(万级厂房)噪音:≤62dB(A)震动:≤3μm
◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制
◆控制方式: 工业微机控制
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中国山东即墨市山东省青岛市即墨区泰山三路285号联东U谷即墨科技创新谷3号楼
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